低輻射玻璃鍍膜設備中空玻璃low-e玻璃鍍膜機二手磁控濺射鍍膜機

低輻射玻璃（Low-E）是在玻璃原片上采用真空磁控濺射方法鍍一層納米級的金屬銀、氧化物復合層而成，可以使玻璃的輻射率從0.84降至0.1甚至更低，輻射熱損減少90%，膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好，與普通鍍膜玻璃相比有較高的可見光透過，更低的輻射，合成中空后，擁有所有玻璃種類中***的U值，能使建筑物保持冬暖夏涼。

設備特點：環(huán)保設備、無任何有害氣體、廢水排放、不銹鋼腔體、堅固耐用、低溫易控

常用靶材：鈦、鉻、不銹鋼、鎳、銅等

電源類型：直流磁控電源、中頻磁控電源、高壓離子轟擊電源

工藝氣體：氬氣、氮氣、乙炔、氧氣

極限真空：6.0×10-4pa

壓升率：0.67pa/h

抽氣系統(tǒng)：擴散泵/分子泵+羅茨泵+粗抽泵+維持泵

控制系統(tǒng)：手動、半自動、全自動

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